Numer: 09/2015 Str. 105
Autorzy: Piotr Kowalik , Zbigniew Pruszowski :
Tytuł: Rezystywne warstwy Ni-W-P wytwarzane metodą chemicznej metalizacji
Streszczenie: Artykuł opisuje nową metodę uzyskiwania warstw rezystywnych Ni-W-P, charakteryzujących się podwyższoną stabilnością elektryczną. Warstwy te mogą być wykorzystane do procesu wytwarzania precyzyjnych rezystorów warstwowych.
Słowa kluczowe: warstwy rezystywne, Ni-P, Ni-W-P, rezystory precyzyjne, chemiczna metalizacja.