Numer: 06/2012 Str. 163
Autorzy: Anna Białostocka , Wojciech Walendziuk :
Tytuł: Ciągły pomiar potencjału podczas procesu elektrochemicznego osadzania miedzi
Streszczenie: W artykule przedstawiona zostanie przydatność komputerowego wspomagania modelowania poprzez przeprowadzanie zdalnych pomiarów w technologiach elektrochemicznych. Modelowanie powłok elektrolitycznych wymaga rozwiązania problemów związanych między innymi z rozkładem prądu w elektrolicie, kształtem elektrod i składem elektrochemicznym środowiska, w którym zachodzi proces. Zastosowaną metodologię wykorzystuje się do analizy potencjału i jego późniejszego wpływu na strukturę osadzonej powłoki i jej topologię. Klasyfikacja własności tej metody umożliwi jej ocenę pod względem elastyczności i przydatności w procesie galwanizacji oraz możliwość późniejszego zastosowania w praktyce.
Słowa kluczowe: elektrokrystalizacja, procesy elektrodowe, powierzchniowa warstwa miedzi, elektrody dodatkowe.