Numer: 07/2010 Str. 211
Autorzy: Aleksander Fedotov , Paweł Węgierek , Olga Zinchuk , Ngo Cuong , Alexander Mazanik , Nina Krekotsen , Viktor Ukhov , Alexander Sotski , Sergey Turishchev , Nikolai Staskov :
Tytuł: Analiza porównawcza wpływu obróbki niskoenergetycznymi wiązkami jonowymi wodoru oraz helu na strukturalne i elektryczne właściwości płytek CzSi
Streszczenie: Standardowe płytki CzSi 4,5 – 40 Ω cm typu n oraz p zostały poddane działaniu wiązek jonowych wodoru i helu o energii 200eV, w zakresie temperatur 25-350°C. Gęstość prądu wynosiła 0,15mV/cm2, a czas trwania obróbki – 30 min. Na podstawie przeprowadzonych eksperymentów stwierdzono, że jonowe wiązki helu i wodoru mają podobny wpływ na rezystancję warstwy, zwrot sił termoelektromotorycznych oraz widma fotonapięcia w płytkach CzSi. Szczególnie a przypadku płytek typu p zaobserwowano wzrost rezystancji warstw i zmianę znaku sił termoelektromotorycznych w obrabianej jonowo powierzchni jak również pojawienie się sygnału fotonapięcia w szerokim zakresie widmowym, co wskazuje na pojawienie się okołopowierzchniowego ugięcia pasma. Przeprowadzone eksperymenty wykazały, że obróbka jonowa wiązką zarówno helu jak i wodoru prowadzi do utworzenia się na obrabianej powierzchni cienkiej (rzędu kilku nanometrów), zawierającej tlen warstwy izolacyjnej. Jednakże, grubość tej warstwy oraz rozkład głębokościowy tlenu są silnie uzależnione od warunków przeprowadzenia obróbki oraz typu zastosowanych jonów, a mianowicie w przypadku oddziaływania wiązką jonów H+ warstwa zawierająca tlen jest grubsza niż w przypadku użycia jonów He+.
Słowa kluczowe: CzSi, wodór, hel, obróbka wiązką jonową.