Numer: 02/2025 Str. 292
Autorzy: Jakub Kisała , Andrzej Kociubiński :
Tytuł: Analiza rozrzutu parametrów struktur magnetorezystancyjnych otrzymywanych metodą rozpylania magnetronowego
Streszczenie: W niniejszej pracy zastosowano metodę rozpylania magnetronowego do wytworzenia wielowarstwowych cienkich warstw przy użyciu chromu, permaloju i miedzi o różnej liczbie warstw. Pomiary rezystancji wykazały, że grubość otrzymanych warstw zależy od położenia podłoży na podstawie obrotowej. Uzyskiwane wartości współczynnika magnetorezystancji są większe dla struktur znajdujących się bliżej środka podstawy. Rozrzut parametrów wytworzonych struktur jest duży w ramach jednej serii struktur co stanowi wyzwanie w przypadku projektowania struktur o grubościach warstw rzędu nanometrów.
Słowa kluczowe: rozpylanie magnetronowe, cienkie warstwy, magnetorezystancja, stałe pole magnetyczne