Numer: 09/2022 Str. 255
Autorzy: Katarzyna Ungeheuer , Konstanty Marszałek , Marzena Mitura-Nowak , Zbigniew Kąkol :
Tytuł: Modyfikacja cienkich warstw tlenków półprzewodzących za pomocą implantacji jonowej
Streszczenie: W artykule opisana została metoda implantacji jonami Cr+ o energii 10 keV i 15 keV, która może być stosowana do modyfikacji cienkich warstw półprzewodnikowych. Wykonano symulacje procesu implantacji z wykorzystaniem programu Stopping and Range of Ions in Matter uwzględniając różne energie wiązki jonów. Przedstawiono schematy aparatury implantatora oraz układu do rozpylania magnetronowego cienkich warstw. Optyczne i strukturalne właściwości nieimplantowanych i zaimplantowanych warstw Cu4O3 i CuO zostały zbadane.
Słowa kluczowe: cienkie warstwy, implantacja jonowa, absorbery fotowoltaiczne.