Numer: 07/2018 Str. 157
Autorzy: Marcin Turek , Andrzej Droździel , Krzysztof Pyszniak , Artur Wójtowicz , Yuriy Yushkevich :
Tytuł: Termodesorpcja ksenonu implantowanego do krzemu
Streszczenie: Artykuł prezentuje wyniki badań termodesorpcji Xe zaimplantowanego do krzemu (energie 80 keV, 100 keV oraz 150 keV). Zaobserwowano gwałtowne emisje Xe w temperaturach od 1060 K do ~1600 K, pochodzące najprawdopodobniej od uwalniania gazu zgromadzonego w aglomeratach we wnękach w matrycy Si. Oszacowano wartości energii aktywacji desorpcji – jest ona rzędu 3 do 3,4 eV w rozpatrywanym zakresie energii implantacji, a więc jest większa niż dla badanych wcześniej lżejszych gazów szlachetnych w matrycy Si.
Słowa kluczowe: Spektroskopia termodesorpcyjna, implantacja jonowa, krzem.