No/VOL: 07/2010 Page no. 270
Authors: Igor Azarko , Vladimir Odzhaev , Mikhail Lukashevich , Pavel Zhukovski , Yuri Bumai , Vlas Volobuev :
Title: Badania optyczne, AFM i ESR fotorezystu implantowanego jonami Sb+
Abstract: Badano strukturę, elektronowy rezonans spinowy oraz współczynnik odbicia cienkich powłok fotorezystu implantowanego jonami antymonu o energii 60 keV dawkami w zakresie 1x1015 – 5x1015 cm-2. Przy dawce krytycznej 5x1015 cm-2 zaobserwowano powstawanie warstwy osadu węgłowego. Określono grubość warstwy implantowanej: 0.27- 0.39 m oraz zmiany współczynnika odbicia – w zakresie 2,4 - 3,4 w zależności od dawki implantacji.
Key words: implantacja jonowa, antymon, fotorezyst, właściwości optyczne.