No/VOL: 07/2018 Page no. 90
Authors: Bartosz Hrycak , Dariusz Czylkowski , Robert Miotk , Mariusz Jasiński :
Title: Spektroskopowe badania plazmy wytwarzanej przez mikrofalowe zasilane falowodowo, źródło płaszczyzny plazmowej.
Abstract: W tej pracy prezentujemy wyniki spektroskopowych badań plazmy wytwarzanej przez mikrofalowe (2,45 GHz), zasilane falowodowo, źródło płaszczyzny plazmowej. Temperatura cząstek ciężkich gazu (zakłada się, że jest ona bliska temperaturze gazu) wynosiła od 800 do 1300K natomiast koncentracja elektronów wahała się od 3.3 * 1014 do 6.1 * 1014 cm-3. Umiarkowana temperatura gazu oraz wysoka koncentracja elektronów czyni z prezentowanego urządzenia atrakcyjne narzędzie obróbki różnorakich powierzchni.
Key words: plazma mikrofalowa, płaszczyzna plazmowa, emisyjna spektroskopia optyczna (OES).